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尔加（f）SnO2和KPF6/SnO2薄膜的FTIR光谱。速天以上工作表明通过界面工程来释放界面应力是一种行之有效的方法。

因此，然气含分子阴离子的界面修饰分子有望进一步提高器件的效率和稳定性。集团（b）glass/ITO/SnO2/KPF6/钙钛矿的ToF-SIMS深度分布。钙钛矿薄膜质量差、投资界面缺陷和界面应力是造成效率和稳定性损失的主要原因。

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速天基于（b）SnO2和（c）SnO2/KPF6的钙钛矿薄膜的深度相关GIXRD图谱。

（g）和（h）为KPF6、然气glass/钙钛矿和glass/KPF6/钙钛矿的的FTIR光谱。碳纤维具有纤维般的柔曲性，集团除具有本身的非金属特性外，还有许多金属材料相同的特性。

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